名片曝光使用说明

步骤1:创建名片

微信扫描名片二维码,进入虎易名片小程序,使用微信授权登录并创建您的名片。

步骤2:投放名片

创建名片成功后,将投放名片至该产品“同类优质商家”栏目下,即开启名片曝光服务,服务费用为:1虎币/天。(虎币充值比率:1虎币=1.00人民币)

关于曝光服务

名片曝光只限于使用免费模板的企业产品详细页下,因此当企业使用收费模板时,曝光服务将自动失效,并停止扣除服务费。

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厦门溅射镀膜/厦门溅射镀膜厂家/厦门溅射镀膜价格/玉通 厦门玉通光电有限公司,自2005年以来是一家专门从事真空镀膜行业,以研发、生产为一体的科技公司。 2012年7月,本公司扩大了产业规模,新上了福建省首条卷绕镀膜生产线,厂房更新至海沧新阳工业区,成立了真空镀膜行业研发小组,组织国内外多名大学的、学者参与到研发中来,成立了联合研发试验基地。本公司现有研究生等科技人员6名,三条生产线,年生产量70万㎡。 本公司产品范围:ITO导电薄膜、ITO导电玻璃、PMMA、PC、PET等板材镀膜。 厦门玉通光电有限公司倡导“求真、务实、诚信、创新”的发展核心理念,以诚信为本、质量的宗旨,为广大国内外客商提供的服务。 厦门玉通光电有限公司,自2005年以来是一家专门从事真空镀膜行业,以研发、生产为一体的科技公司。公司生产ITO导电膜、光学膜、导电膜、彩色膜、非导电膜、装饰膜、防爆膜 是为了在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法。 在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场,借助于靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射的过程。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于 磁控溅射一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。 磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。
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